公司又一項實用新型申請被受理


2009年2月13日,公司又一項實用新型被國家局受理。這是公司繼獲得低溫蓄冷裝置等三項國家及sdei-p200控制軟件獲得國家版權注冊之后又一項申請。這項主要是試驗箱控制屏隱蔽保護技術,它可以保證試驗箱控制屏在任何情況下,不會被外界碰撞,人為的干擾或誤操作。這項技術目前國內(nèi)外尚無先例。
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2009年2月13日,公司又一項實用新型被國家局受理。這是公司繼獲得低溫蓄冷裝置等三項國家及sdei-p200控制軟件獲得國家版權注冊之后又一項申請。這項主要是試驗箱控制屏隱蔽保護技術,它可以保證試驗箱控制屏在任何情況下,不會被外界碰撞,人為的干擾或誤操作。這項技術目前國內(nèi)外尚無先例。